В 2021 году TSMC предложит улучшенный 5-нм техпроцесс

По мнению руководства компании Intel, когда через два года дебютируют первые 7-нм продукты микропроцессорного гиганта, они будут конкурировать с 5-нм продукцией тайваньской TSMC. Так, да не так. Тайваньские источники со ссылкой на анонимных представителей островной индустрии спешат уточнить, что в 2021 году Intel придётся столкнуться с улучшенным 5-нм техпроцессом TSMC. Это будет техпроцесс N5+ или 5 nm Plus ― второе поколение 5-нм техпроцесса крупнейшего в мире контрактного производителя чипов.

Как известно, о чём регулярно напоминает руководство TSMC, рисковое производство с нормами 5 нм компания запустила в первом квартале текущего года. Массовое производство с нормами 5 нм (5N) стартует в первом или во втором квартале 2020 года. В точных сроках запуска массового производства с нормами 5 нм компанией TSMC есть один нюанс. Для работы с данными технологическими нормами компания строит новый завод ― предприятие Fab 18. Как только Fab 18 будет введена в строй, можно будет говорить о начале производства с нормами 5 нм. Этот процесс может растянуться с конца 2019 года до второго квартала 2020 года включительно. Но даже если брать крайние сроки, коммерческое производство с нормами 5 нм TSMC запустит не позднее апреля-июня 2020 года.

Из вышесказанного следует, что рисковое производство с нормами N5+ или по улучшенному 5-нм техпроцессу компания начнёт в первом квартале 2020 года. Источник прямо об этом говорит. Ещё спустя год компания будет готова начать массовый выпуск чипов с использованием техпроцесса N5+. Именно с этим техпроцессом придётся сравнивать свои производственные достижения компании Intel, когда она в 2021 году представит свои первые 7-нм дискретные графические процессоры. Компании AMD и NVIDIA, как давние клиенты TSMC, к этому времени имеют все шансы выпустить как 5-нм GPU, так и вынашивать планы запуска в производство графических решений на улучшенном 5-нм техпроцессе.

На сегодняшний день о техпроцессе TSMC N5+ сказать нечего, кроме одного. Этот техпроцесс частично будет использовать сканеры диапазона EUV. Глубина использования сканеров с длиной волны 13,5 нм будет определять, насколько техпроцесс N5+ окажется лучше техпроцесса N5.

Источник 3dnews.ru.

В прошлое

Intel готовит чипсеты 400-й серии для будущих 14-нм процессоров Comet Lake

Рендеры чехла говорят о крупном вырезе в дисплее смартфона ASUS Zenfone 6

В будущее